栃木县小山市--(美国商业资讯)--半导体光刻光源制造商Gigaphoton股份有限公司（总部: 栃木县小山市、董事长兼总经理: 浦中克己）宣布，已开始批量生产出厂采用新技术的最新半导体制造光刻光源ArF浸没式激光器“GT66A”。

目前，最尖端产品制造开始为逻辑器件开发3nm节点工艺，并开始批量生产用于DRAM的1Znm节点。如何在这些超微细器件中降低转印到晶圆上的曝光图案的粗糙度是一个难题，而且重要的是忠实地再现电路图案并提高批量生产的成品率。

新型光刻光源ArF浸没式激光器“GT66A”通过新开发的光学模块将脉冲发光时间延长到以前的3倍以上，从而改善曝光面的光束均匀性，成功降低粗糙度。还通过引入最新的高度耐用零件，将模块的维护周期延长30%。

此次，GT66A已通过荷兰大厂ASML公司最新ArF浸没式曝光设备NXT:2050i用光源的认证，开始为最终用户批量生产出厂光源。

Gigaphoton董事长兼总经理浦中克己表示：“近年来，半导体芯片被要求具有更高的通信速度，并且可以处理大量数据。主要支持它的是逻辑和存储器半导体的细微化，这需要光刻技术的进一步创新来实现高生产率。Gigaphoton将通过技术创新改善成像性能并提高光源的Availability，为新一代产业界的发展做出贡献。”。

GIGAPHOTON公司简介

GIGAPHOTON公司成立于2000年，作为一家激光器的供应商，自成立以来一直为全球的半导体生产厂商提供有价值的解决方案。GIGAPHOTON时刻以客户为中心，从产品研发到生产、销售及维护，为用户提供业界最高水准的支持。